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本次索尼日本之行最重要的环节,就是参观索尼位于熊本的半导体工厂。如果说“半导体”这个词会让你比较陌生的话,那么换成“CMOS”你肯定再熟悉不过了。作为数码相机中最核心的部件,这间工厂每天能够生产约400万片CMOS,而索尼全画幅微单TM旗舰A9相机的CMOS也是在这里生产的。截至目前,索尼全球的CMOS出货量占比也已经超过了50%,所以说索尼的CMOS撑起了影像行业的半壁江山,并不为过。
同样因为保密的原因,本次参观没有拍摄照片的机会。不过好在索尼为我们提供了一套可以供媒体发表的CMOS生产制作流程图片以及索尼电子取景器的制作流程图,可以与大家分享。但在与大家分享之前,在这里还是想和大家分享几点我在参观工厂过程中获得的信息:
1.熊本半导体工厂从1977年开始生产CCD,2000年后开始生产CMOS,目前CCD已经全部停产。
2.工厂从开始生产到现在已经累计生产了71亿片感光元件。
3.工厂24小时不间断生产,生产全流程自动化进行,仅有少量维护生产设备的工作人员。
4.熊本工厂在2016年4月遭受地震影响损坏严重,但很快进行了灾后重建恢复生产。
5.修缮后的厂房加强了防震结构,在遭受同样级别地震后可以做到2个月内恢复生产。
那么接下来,我们就通过一组图片,让大家了解下CMOS的制作过程。
·CMOS制作过程
生产一块CMOS主要分为前工序与后工序。在前工序中,一块大的圆柱形高纯度单晶硅体,先被切割成直径30cm的硅晶圆盘。之后进入“洗净工序”:用纯净水去除硅圆盘上的金属、有机物等残留物。
在“洗净工序”结束后,会进行“电路印刷工序”。这时候在硅晶片上就会形成拜耳涂层以及电路图案。
在前工序结束之后,会有机器人将25片为一组的硅晶片盘盒送至后工序车间,在这里对CMOS进行测试,并切割成我们常见的一片片结构。
在“切割工序”完成后,会有机器人进行“连接工序”,将IC芯片的电极和引线与硅片本体连接。到这里CMOS的制作工序就基本结束了,因为保密的原因不能介绍的太过详细,而索尼所生产的不同种类的CMOS在制作过程中也有细节区别,在这里不一一说明。
而除了CMOS的生产过程,索尼A9的EVF取景器也在这里生产,所以我再为大家简单介绍一下EVF取景器芯片的制作过程。
·A9取景器制作过程
制作EVF芯片的前工序与制作CMOS的基本相同,主要区别在于后工序。在后工序中首先对芯片进行堆栈前的清洗。
在清洗完成后会进行涂膜工艺,因为EVF的主要部件是一片LED屏幕,其工艺与CMOS制作有所不同。
之后进入引线安装工序,将LED芯片与导线连接。
连接完成后的部件要进行测试,即老化工序,连续使用实验。
至此取景器LED屏幕的制作步骤就基本结束了。虽然在工厂停留的时间不长,但是有机会进入这座熊本工厂,观看CMOS与EVF屏幕的制作过程还是一段十分难忘的经历。索尼在半导体生产领域目前拥有着举足轻重的地位,不仅是索尼自己的相机,多个日系品牌相机的CMOS也都在这里生产。你手中相机的CMOS,就很可能出自这里哦。
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